?真空電鍍廠基本原理制造工藝不同，真空電鍍都是基于電反應(yīng)原理，在帶有需鍍金屬離子的水溶液通以直流電源，使這些金屬離子在負(fù)極（工件）得到電子變?yōu)榻饘?，附著在鍍件上，即是鍍層，真空鍍都是基于物理氣相沉積基本原理，使需鍍金屬或金屬氧化物或鋁合金在超高真空下持續(xù)高溫氣化，附著在鍍件上；

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?真空電鍍和鍍膜的不同?

機器設(shè)備不同，電鍍關(guān)鍵設(shè)備是直流電源、鍍槽等，真空鍍關(guān)鍵設(shè)備真空鍍膜設(shè)備（包括真空室、真空泵等）；常用原料不同，電鍍關(guān)鍵原料為各類化工原料和金屬材料，真空鍍關(guān)鍵原料為金屬、過渡金屬及鋁合金；應(yīng)用領(lǐng)域和應(yīng)用領(lǐng)域不同，

電鍍還可以在絕大多數(shù)金屬與非金屬中進(jìn)行，主要運用于金屬防護、裝飾導(dǎo)電、耐磨等多功能性電鍍，真空鍍加工目標(biāo)受限制，比如無法直接在鋼材件上鍍，真空鍍膜非常薄，并不像電鍍那般厚，但可以鍍得電鍍做不到的事情鍍層，如金黃色的氮化鈦、鋁等，用于耐蝕、耐磨、裝飾等場所，真空鍍由于受到真空室尺寸的限制，不可以鍍大型零件，比較之下，電鍍受此限定小很多；在安全方面，真空鍍比電鍍電鍍工藝小的多。